①與阿斯麥的技術路線不同,佳能的芯片制造設備直接把電路“壓在”光刻膠上; ②這種設備據(jù)稱功耗只需要傳統(tǒng)光刻機的十分之一,還有一次成型三維電路等優(yōu)勢; ③佳能希望未來3-5年內(nèi)能實現(xiàn)每年出貨10-20臺。
財聯(lián)社9月27日訊(編輯 史正丞)全球光刻機產(chǎn)業(yè)終于迎來了一個有些“不一樣”的新產(chǎn)品——日本佳能公司本周宣布,成功交付首臺新型納米壓印光刻機。
(來源:佳能公司官網(wǎng))
這里首先需要解釋一下,佳能的納米壓印光刻(NIL)系統(tǒng),與阿斯麥的光刻技術有什么區(qū)別。
傳統(tǒng)的光刻機通過將電路圖案投影到涂有光刻膠的晶圓上來轉(zhuǎn)移電路圖案,佳能的設備則是通過將“印有電路圖案的掩模像印章一樣壓入晶圓上的光刻膠中”來生產(chǎn)芯片。由于電路圖案的轉(zhuǎn)移不需要通過光學機制,掩模上的精細電路圖案可以在晶圓上忠實再現(xiàn)。
佳能在去年十月發(fā)布了全球首臺商業(yè)化納米壓印光刻系統(tǒng)FPA-1200NZ2C,公司表示這款設備可以實現(xiàn)最小線寬為14納米的電路圖案,相當于當前生產(chǎn)先進邏輯半導體用到的5納米節(jié)點。
關鍵優(yōu)勢是便宜
佳能表示,相較于傳統(tǒng)光刻機需要復雜的光學鏡片構(gòu)造,納米壓印設備的構(gòu)造更為簡單,功耗僅需十分之一。同時還能通過單次壓印形成復雜的三維電路圖案,能夠處理用于最先進邏輯芯片的極細電路。
這條芯片制造路線的開發(fā)從2014年啟動。去年底開始,佳能與鎧俠 (Kioxia)、大日本印刷合作開始銷售這款設備。
這次交付的首臺設備將被送往美國得克薩斯電子研究所。這是得克薩斯大學奧斯汀分校支持的一個團體,成員包括英特爾和其他芯片公司、公共部門和學術組織。這臺設備將被用于芯片制造的研究與開發(fā)工作。
佳能光學產(chǎn)品副首席執(zhí)行官Kazunori Iwamoto對媒體表示,公司計劃在未來3-5年內(nèi),每年銷售10-20臺此類設備。
對于佳能來說,進一步推廣納米壓印技術也存在一些挑戰(zhàn)。首先由于“壓印”的物理機制,這種光刻機需要更先進的技術防止細小的塵埃顆粒造成芯片缺陷。同時由于芯片制造涉及廣泛的產(chǎn)業(yè)鏈,拓展更多公司、特別是材料企業(yè)加入“納米壓印產(chǎn)業(yè)鏈”對于佳能來說也非常重要。